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MD40-54-加熱制冷循環(huán)器（-40℃～90℃）提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。

加熱制冷循環(huán)器（-20℃～180℃） 加熱制冷循環(huán)器實現高溫195℃，低溫-20℃恒溫測試，為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度達到±0.1℃， 應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用。

加熱制冷循環(huán)器MD40-20$n提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。

加熱制冷浴槽（-30℃～90℃），MD30-100可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥、半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式實驗或外循環(huán)應用。